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硼靶材B靶材磁控溅射靶材

发布日期 :2021-08-04 11:19访问:1次发布IP:27.189.204.119编号:7148703
品牌:
京迈研
规格:
根据客户要求定制
分 类
特殊/稀有贵金属/半金属
单 价
1000.00元/片
最小起订量
1 片
供货总量
10 片
发货期限
自买家付款之日起 21 天内发货
有效期至
长期有效
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详细介绍
 科研实验专用硼靶材B靶材磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
产品介绍
      硼(B)不溶于水,粉末状的硼能溶于沸硝酸和硫酸,以及大多数熔融的金属(如:铜、铁、锰、铝和钙),常温时能与氟反应,不受盐酸和氢氟酸水溶液的腐蚀;硼为黑色或深棕色,硬度仅次于金刚石,质地较脆,在空气中氧化时由于三氧化二硼膜的形成而阻碍内部硼继续氧化;硼在常温时为弱电导体,而在高温时导电良好。在自然界中主要以硼酸和硼酸盐的形式存在。硼是一种用途广泛的化工原料矿物,主要用于生产硼砂、硼酸和硼的各种化合物以及元素硼,是冶金、建材、机械、电器、化工、轻毛、核工业、医药、农业等部门的重要原料;单质硼用作良好的还原剂,氧化剂,溴化剂,有机合成的掺合材料,高压高频电及等离子弧的绝缘体,雷达的传递窗等。
产品参数
中文名 硼                元素符号 B
分子量 10.81           沸点 4000℃
熔点 2076℃            密度 2.46g/cm3 
支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!! 
服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!
产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 
质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 
加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!
       我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。
       注意:高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!
       建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。
 

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