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氧化钽靶材Ta2O5磁控溅射靶材

发布日期 :2021-08-04 11:19访问:1次发布IP:27.189.202.115编号:6900323
品牌:
京迈研
规格:
根据客户要求定制
分 类
非金属矿产
单 价
1000.00元/片
最小起订量
1 片
供货总量
10 片
发货期限
自买家付款之日起 21 天内发货
有效期至
长期有效
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详细介绍
 科研实验专用氧化钽靶材Ta2O5磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
产品介绍
       氧化钽(Ta2O5),白色粉末,不溶于水和酸,熔点:1800℃,密度8.2g/cm³。化学性质与氧化铌类似生产金属钽的原料;也用于电子工业。供拉钽酸锂单晶和制造高折射低色散特种光学玻璃用,化工中可作催化剂。
产品参数
中文名:五氧化二钽     分子式:Ta2O5
分子量: 441.89       密度:8.2g/cm3
熔点:1800℃
服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!
产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 
质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 
加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
 
 陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!
 
       我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。
 
       注意:高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!
 
       建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。

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